MURCIA. El artista murciano Álvaro Peña es el autor del cartel del New York Summit 2019, uno de los mayores eventos en español que tiene lugar en Estados Unidos. La gala, en la que estará presente el ilustrador como creador de la imagen oficial de esta edición, se celebrará el próximo 20 de noviembre en la sede de la Fundación Ángel Oresanz en Nueva York.
Hace unos meses el presidente de la Fundación ICLF Inspiring Committed Leaders Foundation, Ray Cazorla, le comunicó al creador murciano que había sido seleccionado para realizar la imagen oficial del New York Summit, convirtiéndose de esta manera en el primer murciano que ha creado el cartel para este gran evento neoyorquino.
Peña ha manifestado, en declaraciones publicadas por el New York Summit, su satisfacción por haber colaborado en "este gran encuentro donde se dan cita los mejores y los que tienen algo que aportar a la sociedad en los diferentes campos". Respecto al trabajo que ha realizado, el artista murciano cuenta que buscó "una imagen que dijera mucho, pero a la vez fuera sencilla y fácil de llegar al gran público". Asegura que "enseguida tuve claro que esa era la Estatua de la Libertad iluminando al mundo, abriéndole los ojos y transmitiendo su sabiduría. Ese era el mensaje y así lo plasmé, con mucho colorido y con un fondo muy limpio, indicando que toda la ciudad está a sus pies".
"Para cualquier artista, representar un encuentro como este es todo un lujo", añade Álvaro Peña, quien cuenta que "tengo por costumbre trabajar mucho en el plano del pensamiento, creando en silencio hasta ver claramente la imagen que quiero representar. Ese es el gran momento, cuando llega la idea eres la persona más feliz del mundo, a partir de ahí la ejecución técnica, o sea pintarla sobre el lienzo, es lo más sencillo; sólo se tiene que tener una buena técnica de pintura".
El New York Summit y su gala de los premios New York Awards nacen con el objetivo de promover y premiar a las personas, organizaciones y empresas que están trabajando por mejorar el mundo a través de los Objetivos de Desarrollo Sostenible de la Asamblea General de las Naciones Unidas. Esta gala se celebra anualmente en Nueva York y ha logrado posicionarse como uno de los eventos referentes de la ciudad, llegando a una audiencia de más 44 millones de personas en la pasada edición. Este año los premiados son Bernice Luther King, Jesús Martínez Linares, Leonardo DiCaprio, GretaThunber, Kathkeen Kennedy y Carlos Baute, entre otros
Además, el New York Summit constituye un punto de encuentro para directivos de distintos países que buscan las claves del éxito empresarial de la mano de los expertos mundiales más reconocidos en el ámbito de la economía, el emprendimiento, la tecnología y la innovación.
El artista murciano Álvaro Peña es académico correspondiente de la Real Academia de Alfonso X El Sabio de Murcia y ha impartido diferentes cursos de pintura así como de ilustración y cómic. Recibió el Premio Institucional a la Solidaridad Madrid 2010, otorgado por FEBHI. Ha expuesto su obra en las principales ciudades españolas, así como en capitales de otros muchos países.
